?光刻工艺是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。 自1961年第一台光刻机诞生以来，光刻机经历了接触式接近式投影式的发展路线，如今以投影式中的步进扫描式光刻机为主流

　　以光为刀的光刻技术 引文 光的出现以及每一次发展都是人类社会的一大进步：地球上出现的

　　据外媒报道指高通已要求台积电和三星提供2纳米工艺样板，预计在2025年同时给这两家芯片代工企业的2纳米工艺下单，这意味着台积电的2纳米工艺能如期在2025年量产，对美国的芯片产业计划无疑是一大打击。美

　　外媒指出今年ASML的10台2纳米光刻机分配已经基本确定了，Intel拿到6台，三星获得3台，台积电只能得到一台，考虑到美国对ASML的强大影响力，外媒的这些消息应该有较高的可信性。 Intel

　　外媒报道指ASML今年量产的10台2纳米光刻机将有6台优先交付给Intel，这意味着台积电和三星将只能争夺剩下的4台，并且这4台光刻机的量产时间也较晚，将导致它们在2纳米工艺研发方面落后于Intel。

　　日前消息指光刻机巨头ASML预计明年量产10台第二代EUV光刻机，其中6台已确定被美国芯片企业Intel夺下，剩下的两台将由三星和台积电竞争，如此一来拿到更多第二代EUV光刻机的美国可望率先量产2纳米，反超台积电

　　近年来，受国际贸易形势影响，加之全球半导体产业逐渐向我国大陆转移，我国光芯片市场国产化进程不断加快。在此背景下，我国EML芯片行业发展态势将持续向好。 电吸收调制激光器（EML）是一种高性能调制激光器

　　《投资者网》孟行 近日，苏州苏大维格科技集团股份有限公司（以下简称“苏大维格”，300331.SZ）因涉嫌信息披露违法违规，先后收到深交所的关注函，以及证监会的《立案告知书》和《调查通知书》，还有江苏证监局下发的《行政处罚事先告知书》

　　《港湾商业观察》王璐虽然上半年交出了一份并不算好的业绩答卷，但市场普遍对于国机通用（600444.SH）未来业务的想象空间充满期待。 日前，根据国机通用发布的半年

　　ASML的高数值孔径极紫外光刻机EXE:5000的照片说明了它的巨大规模。来源：ASML在过去的半个世纪里，我们已经开始把摩尔定律硅领域中晶体

　　多家媒体报道指ASML二季度对中国的光刻机出口大幅增长，一季度对华光刻机出口大约8台，二季度则猛增至27台，环比暴涨234%，显示出ASML可能考虑到9月1日后对华光刻机出口受限，而加紧对华出货。

　　多家媒体报道指国内知名存储芯片企业长江存储的董事长指出已买回的光刻机因维护和零件问题可能无法使用，因此提出基于公平原则，ASML理应回购这些光刻机，凸显出中国芯片企业的愤怒。 由于美国的阻挠，A

　　荷兰方面正式宣布了最新的决定，要求企业出口先进设备前需要获得许可证，新规将在9月1日生效，明眼人都知道这一规定针对的是谁，不过荷兰此举影响的将不仅是中国芯片，对它自家的芯片设备产业也将造成打击。

　　作者：程诺，编辑：小市妹 在整个电池技术从P型向N型突破的关键时期，由于银浆成本占HJT（异质结）非硅成本的40%以上，成本高昂时限制HJT电池大规模产业化的关键因素之一。 金属化降本增效成了行业当下迫切任务，在这种背景下，铜电镀技术应运而生

　　美国拉拢了日本、荷兰，从芯片设备方面进一步加码限制中国芯片，不过日前知名院士倪光南认为中国在存储芯片方面拥有自己的核心知识产权，不会受EUV光刻机的限制所影响。 据了解目前全球主流的NAND f

　　国内最大的芯片代工厂中芯国际官网的介绍当中，最先进工艺为28纳米，似乎它的14纳米工艺已受到国际环境的影响，无法提供大规模的产能，暂时撤下了14纳米代工服务。 此前由于众所周知的原因，美国拉拢日

　　依靠全球唯一的EUV光刻机，ASML在近十年来可谓如鱼得水，利润快速增加，然而台积电和三星突然减产，却让ASML的EUV光刻机突然不香了，为了挽救业绩，ASML终于认识到中国市场是救命稻草。 一

　　在全球诸多经济体当中，此前推动芯片产业发展都是依托于全球现有的芯片产业链发展，然而在美国悍然修改芯片规则的情况下，中国却逐渐形成了自己的芯片产业链，成为唯一拥有全产业链的国家。 在以往的芯片产业

　　分析机构给出了2022年全球十大芯片代工厂的业绩，发现中国芯片制造企业的表现尤为亮眼，增速远超台积电，显示出美国的限制反而推动了中国芯片的崛起，无疑让美国颇为失望。 分析指出2022年中国已有三

　　在诸多纠葛之后，日本最终决定跟随美国，停止对中国供应23种芯片设备，此举对中国芯片产业固然会带来一定打击，但是对于日本芯片产业的打击将更大，甚至可以说对日本芯片产业来说是灭顶之灾。 一、日本芯片